保管庫、局所クリーン、クリーンブース、クリーンベンチ、クリーンルームまで用途に合わせた空調システムを提供します。 エアー循環式、エアーワンパス式、省エネ式等用途に合わせて設計します。又、ケミカルフィルターの搭載も可能です。 使用例 （1）半導体 n（ナノ）単位の測定器環境 （2）クリーンブース室内環境温度改善 （3）食品生産における冷却工程 （4）特殊塗装乾燥工程における高湿度エアー供給システム 仕様 清浄度 クラス10 （0.1μm） 風量 35m3/min 設置場所環境 DB23℃±1℃ RH45%±5% 制御条件 DB23℃±0.05℃ （設置場所環境の急激な変化時は除く） 温度分布 DB23℃±0.1℃ （設置場所環境の急激な変化時は除く） 内部発熱 1KW 排気量 5m3/min以下まで許容 温度制御 ホットガス再熱方式 冷凍機 水冷式 筐体 SUS304　＃400研磨 フィルター ULPAフィルター （ケミカルフィルター取付可能） 安全 非常停止、冷凍機異常 漏電ブレーカ、漏水異常 過熱異常、過電流異常 他 電源 AC200V　3φ　50/60 10A以下 冷却水 25℃　19L/min 34℃　42L/min 製品例 サーマルクリーンブース 低湿度サーマルチャンバー クリーンブース内の作業者に快適な環境を整えます。 循環方式の場合クリーンブース内の湿度を下げない方式を採用できます。 制御範囲・・・・ 24℃±1℃ 設置場所環境・・ 20℃〜30℃ 湿気に影響される製品の保管、低湿度下での作業が要求される設備に低湿度エアーを供給します。 制御範囲・・・・ 25℃以下のコントロール 絶対湿度・・・・ 5g/m3 設置場所環境・・ 24℃±2℃ スポットサーマルチャンバー サーマルクリーンチャンバー 装置内の制御精度を要求される個所に、湿度コントロールされたクリーンエアーを供給します。 制御範囲・・・・ 23℃±0.05℃ 45%±5% (設置場所環境の急激な変化時は除く) 設置場所環境・・ 20℃〜25℃ 45%±10% 温度変化による伸縮の影響を受けるnμの位置精度を必要とする設備、レーザーを使用する微細測定機器などの設備を収納し、設置場所の環境変動による影響を受けないようエアーを循環させ温度コントロールします。 制御範囲・・・・ 22℃±0.05℃ (設置場所環境の急激な変化時は除く) 設置場所環境・・ 24℃±1.5℃ 概略図 ● 外形寸法 2600×1800×2100H ● 室内寸法 2000×1700×1800H ● 質量 700kg