Pure Clean Environment

製品情報

N2置換式低酸素濃度クリーンオーブン

熱処理装置製造・販売 最終更新:

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クラス100以上の雰囲気で加熱処理可能

以下のプロセスにおいて有効です。

  • 高温(MAX500°C)処理
  • 酸素濃度を下げる
  • 槽内クリーンな条件
  • ウエーハ25枚同時処理
  • 高温状態から素早く温度を下げる

ポリイミド熱処理に最適なクリーンオーブン

仕様
方式 窒素置換方式
仕様温度範囲 100℃〜400℃(常用350℃)
温度分布精度 ±3.0% 350℃に於いて(槽内無負荷時)
昇温時間 RT→350℃ 約60min(槽内雰囲気温度)
150℃→350℃ 約45min(槽内雰囲気温度)
下降温度時間 350℃→50℃ 約60min(槽内雰囲気温度)
350℃→150℃ 約30min(N2ガス導入時)
酸素濃度 30ppm以下(N2ガス 200NL/min供給時)
清浄度 オーブン内雰囲気 100p/cft@0.1μm以上
EFEM部 クラス=M1
処理槽材質 SUS304研磨仕上げ  
N2供給量 200NL/min(流量センサー付き)  

低酸素雰囲気で熱処理を行う クリーンオーブン で300φシリコンウエーハを対象としており、標準仕様は常用350°Cです。
温度は500°Cまで対応可能です。(高温の場合、装置仕様は一部変更となります。)
FOUPから自動移載し、25枚同時に熱処理行い冷却後にFOUPに戻します。
熱処理時のウエーハは水平方向だけでなく、オプション機能で垂直方向にする事も可能です。
1チャンバータイプだけでなく、2、4チャンバータイプにも対応いたします。
(200φシリコンウエーハにも対応いたします。)

概略図
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